1958年,世界上第一台等离子喷涂设备在美国问世,使喷涂制备高熔点材料(比如陶瓷)涂层成为可能。该技术迅即在科技领域内作出了重要贡献。随着现代工业技术的高速发展,人们对各种零部件的性能要求越来越高,其表面处理越来越受到重视,因此对涂层质量要求也越来越高。由于陶瓷材料所具有的优异性能得到越来越多人的青睐,促进了喷涂工艺的不断完善。世界上先进的工业我家先后在多种产品上喷涂不同的陶瓷涂层,提高了产品的使用性能和服役期限。如今,陶瓷涂层技术正在形成一个新兴的、市场极广阔的工业领域。正是这一市场需求,各式各样陶瓷涂层喷涂没备的研制工作正在广展开。世界上等离子喷涂设备的发展正向自动化、集成化、嵌入生产流水线、柔性化、网络化、乃至无人化和通过Interneti远程控制的方向发展。同时,等离子陶瓷涂层技术正带动一系列高科技技术的发展和兴起,如陶瓷涂层超导元件、陶瓷涂覆的生物医学功能材料、永不磨损金刚石薄膜技术、新型超大规模集成电路、高辐射率节能涂层、波长吸收和抗干扰涂层等,发展前景极为广阔。
一、等离子喷涂技术简介
等离子喷涂是热喷涂技术领域中极为重要的一项工艺技术。目前热喷涂用粉末材料几乎都可以通过此方法制备成性能良好的涂层。等离子喷涂正在应用的有大气等离子喷涂、可控气氛等离子喷涂和液体稳定等离子喷涂方法,处于研究状态的有脉冲、射频和感应藕合等几种等离子喷涂方法。
大气等离子喷涂使用氢气、氮气、氢气作为离子气,经电离产生等离子高温射流,将输入的材料熔化或熔融喷射到工件表面形成涂层。主要用于制备金属陶瓷、陶瓷涂层。在这种喷涂装置上对喷涂枪进行改进发展了超音速等离子喷涂,该等离子焰流能量密度更高、焰流速度更快、涂层更加致密。可控气氛等离子喷涂是将等离子喷枪置于密闭仓内,由机械手进行操作,将仓内抽至真空状态的为真空等离子喷涂,仓内为低压状态的则为低压真空等离子喷涂。这种1艺特点由于低压和气氛可控,等离子焰流加长,粒子加热更充分,氧化减少,涂层的质量得到明显改善,并且扩大了热喷涂在沉积金刚石膜、超导氧化物涂层方面的应用。
二、新等离子喷涂设备系统组成和特点
在许多方面,其性能表现优于7M,9M系统。其主要特点为效能、高稳定和高性价比。DH-1080等离子喷涂没备由电源、控制柜、喷枪、转接箱、送粉嚣和冷水机组等六部分主件组成。
该系统采用低压大电流电源没计理念,相比磁放大等离子喷涂电源来说,其反应速度更快,功率因数更高。相对逆变电源来说,其提供了更高的功率,只采用单一的电源就能使系统正常工作。而且其电源结构要比逆变电源要简单的多,这也减小了控制系统的复杂性,同时也在一定程度上降低了生产和制造成本
